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    Types de gravure des semi-conducteurs
    Gravure des semi-conducteurs est le processus d'élimination des matières indésirables à la surface . Ce procédé est largement utilisé dans l'élaboration de cartes de circuits imprimés à base de semiconducteurs (PCB ) et des cartes de différents dispositifs électroniques . En outre, ce procédé est également utilisé pour apporter certaines modifications physiques et chimiques à l'intérieur des matériaux semi-conducteurs , de sorte qu'ils deviennent pouvant fonctionner sur les températures et les tensions souhaitées. Gravure de semi-conducteurs sur le niveau industriel est réalisée par trois méthodes différentes , qui sont à plasma, une gravure par voie humide et dépendant de l'orientation . La gravure par plasma

    gravure plasma consiste à immerger semi-conducteurs conseils /gaufrettes dans un état ​​réactif de fluor ou de chlore gazeux . Cet état réactive de ces gaz est considéré comme l'état de plasma , qui est obtenu par l'introduction des ondes électromagnétiques concentrées sur leur état ​​gazeux respectifs. La gravure par plasma fournit chevauchement effectif de particules de plasma sur la surface de plaquettes semi-conductrices , qui à son tour, modifier leurs propriétés physiques et chimiques . L'ensemble du processus est réalisée à une température ambiante normale grâce à un équipement spécialisé appelé graveurs plasma.
    Gravure humide

    gravure humide implique l'utilisation de produits chimiques liquides réactifs pour graver la surface du semi-conducteur matériaux . Elle emploie élimination des matières indésirables de la surface d'une manière sélective ou contrôlée , ce qui permet le processus d' attaque chimique à réaliser de manière modelée. Gravure humide sur des puces semi-conductrices se fait habituellement par l'acide fluorhydrique tamponné ou le fluorure d' ammonium, qui sont à la fois cohérente et isotrope - réaction de composés . En outre, ce type de gravure produit une quantité importante de déchets toxiques durant le processus ; . Et pour cette raison, il n'est pas utilisé dans la gravure des puces semi-conductrices complexes et gaufrettes
    dépendant de l'orientation
    gravure

    gravure dépendant de l'orientation est un type de gravure humide qui est effectuée d'une manière anisotrope. Le terme « anisotrope » désigne les propriétés chimiques des variations et les changements brutaux au sein caractéristiques de la substance . Pour cette raison , la gravure dépendant de l'orientation effectue le processus d'élimination de la matière d'une manière inégale des surfaces de semi-conducteurs. Ce type d'attaque est aussi appelé gravure humide anisotrope , et se fait habituellement par des composés comme l'hydroxyde de potassium , hydroxyde de tétraméthylammonium et éthylènediamide pyrocatéchol .
    Signification

    différents types et méthodes de gravure fournir d'importantes transformations au sein de certaines propriétés physiques et chimiques des matériaux semi-conducteurs . Par exemple , la gravure est communément connue pour produire des changements significatifs dans la couleur , le poids , le volume, d'un état physique et les niveaux de résistance thermique des matériaux semi-conducteurs . Ces transformations et les changements aident à semi-conducteurs à accroître leurs niveaux de conductivité pour des charges électriques désirées dans divers appareils électroniques et d'équipements.

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